關(guān)于離子鍍膜機(jī)的功能特性

　　離子鍍膜機(jī)的工作原理主要基于冷陰極真空弧光放電理論，點(diǎn)燃真空電弧后，陰極靶材表面上出現(xiàn)一些不連續(xù)、大小和形狀多樣、明亮的斑點(diǎn),它們?cè)陉帢O表面迅速地做不規(guī)則的游動(dòng),一些斑點(diǎn)熄滅時(shí)又有些斑點(diǎn)在其他部位形成，維持電弧的燃燒。陰極斑點(diǎn)的電流密度達(dá)104~105A/cm2,并且以1000m/s的速度發(fā)射金屬蒸氣，其中每發(fā)射10個(gè)電子就可發(fā)射1個(gè)金屬原子,然后這些原子再被電離成能量很高的正離子(如Ti+),正離子在真空室內(nèi)運(yùn)行時(shí)與其他離子結(jié)合(如與N-形成TiN)，沉積在工件表面形成涂層。

　　離子鍍膜機(jī)過程的突出特點(diǎn)在于它能產(chǎn)生由高度離化的被蒸發(fā)材料組成的等離子體，其中離子具有很高的動(dòng)能。蒸發(fā)、離化、加速都集中在陰極斑點(diǎn)及其附近很小的區(qū)域內(nèi)。

　　其中最顯著的特點(diǎn)是從陰極直接產(chǎn)生等離子體，離化率高，一般可達(dá)60%～80%，入射粒子能量高，涂層的致密度高，強(qiáng)度和耐久性好。

　　離子鍍膜機(jī)的沉積速度快，繞鍍性好，設(shè)備較為簡單，采用低電壓電源工作比較安全。一弧多用，電弧既是蒸發(fā)源和離化源，又是加熱源和離子濺射清洗的離子源。