發(fā)布時間：2021-04-22蒸發(fā)鍍膜機

發(fā)布時間：2021-02-26磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備的優(yōu)點

磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備，磁控濺射具有以下兩大優(yōu)點：提高等離子密度，從而提高濺射速度;減少轟擊零件的電子數(shù)目，因而降低了基材因電子的升溫。

發(fā)布時間：2021-01-22真空鍍鋁設(shè)備的2種形式及優(yōu)勢

真空鍍鋁設(shè)備品種多樣，有多弧離子真空鍍膜機、卷繞鍍膜機、電阻蒸發(fā)真空鍍膜機、 　　??超硬質(zhì)工具鍍膜機等其他零配件的技術(shù)及新型的材料，使得工藝產(chǎn)品的質(zhì)量大大提高。 　　??真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射，這兩種都可鍍成相應(yīng)的顏色。真空蒸發(fā)鍍膜更為廣泛，常用電阻加熱法，

發(fā)布時間：2021-01-22磁控濺射鍍膜設(shè)備能夠應(yīng)用于哪些方面呢?

磁控濺射鍍膜設(shè)備在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：比如說切削工具、磨具和耐磨耐腐蝕等配件。在防護涂層中的應(yīng)用：飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。

發(fā)布時間：2021-01-12真空卷繞鍍膜機有哪些類型，以及它的原理?

蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備根據(jù)蒸鍍工藝可分為連續(xù)式、半連續(xù)式和間歇式三種，因設(shè)備結(jié)構(gòu)不同還可分為：單室、雙室和多室卷繞鍍膜設(shè)備

發(fā)布時間：2021-01-12卷繞鍍膜機卷膜條件

　卷繞鍍膜機卷膜條件： 卷膜有效幅寬 1050mm 卷膜大直徑 ф400mm 卷繞芯軸直徑 ф100mm(3寸不銹鋼芯軸)

發(fā)布時間：2021-01-12磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程

磁控濺射鍍膜設(shè)備配合NCVM工藝，能夠?qū)崿F(xiàn)對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術(shù)性，好地滿足消費者的個性化需求

發(fā)布時間：2020-12-28多弧離子鍍膜機的應(yīng)用范圍

?多弧離子鍍膜機的應(yīng)用范圍主要可以分為兩大類，一類為工具類產(chǎn)品的鍍膜，一類為裝飾鍍膜。

發(fā)布時間：2020-12-28淺析真空鍍膜機的原理

真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大工作原理。

發(fā)布時間：2020-12-16多弧離子鍍膜機幾種排氣方法

多弧離子鍍膜機的抽真空通常采用下面幾種排氣方法：單純排氣工藝、抽空加熱排氣工藝、空氣預(yù)加熱排氣工藝。