PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境無污 染，是綠色環(huán)保工藝;對(duì)操作者無傷害;膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻。真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù))，這些方法統(tǒng)稱物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)， 簡(jiǎn)稱為PVD。