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真空鍍膜的過程中噴點(diǎn)形成的原因

2020-01-08  來自: 肇慶高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1091


  真空鍍膜的過程中有時(shí)會(huì)產(chǎn)生噴點(diǎn)及潮斑(花斑),這些噴點(diǎn)、潮斑(花斑)影響了薄膜的品質(zhì),降低產(chǎn)品的合格率。本文將對(duì)噴點(diǎn)、潮斑(花斑)的形成原因作一探討。

  一、噴點(diǎn)形成的原因

  鍍膜過程中產(chǎn)生噴點(diǎn)主要有以下幾種原因:

  1、鍍膜材料純度不高,含雜質(zhì)較多,預(yù)熔過程中無法將這些雜質(zhì)去除,蒸鍍過程中雜質(zhì)濺上工件表面形成噴點(diǎn)。

  2、材料較為潮濕,預(yù)熔時(shí)電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化,在蒸鍍過程中也容易產(chǎn)生噴點(diǎn)(這種情況在用國(guó)產(chǎn)電子槍鍍制MgF2及一些直接升華的材料時(shí)較易發(fā)生)。

  3、鍍膜前對(duì)材料進(jìn)行預(yù)熔時(shí)不夠充分,蒸鍍過程中材料里的細(xì)小顆粒濺上工件表面形成噴點(diǎn)。

  4、鍍膜過程中,電子槍束流過大引起的材料飛濺產(chǎn)生的噴點(diǎn)。

關(guān)鍵詞: 真空鍍膜           

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