卷繞鍍膜機真空抽氣系統(tǒng)分上室下室兩組，下室為蒸鍍室，要求真空度高，主泵多為油擴散泵。上室為基材卷繞室，要求真空度較低，為羅茨泵機組或擴散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個數(shù)量級。有時卷繞鍍膜機以增擴泵(油擴散泵的一種)為主泵，它的極限壓力雖然不及油擴散泵，但其抽速范圍向高壓方向延伸一個數(shù)量級，非常適宜此類蒸發(fā)的鍍膜過程。

　　進行鍍膜機結構設計的時候注意卷繞鍍膜機的帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。帶狀基材的跑偏和起褶問題也要進行注意，隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴重時會造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。

　　同時要注意卷繞鍍膜機設計的時候要注意提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L.H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發(fā)展，卷繞速度有待提高。