磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些
2020-09-03 來自: 肇慶高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):790
下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。
主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積.
現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn).
直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.
而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材中毒等現(xiàn)象.
而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.
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