蒸發(fā)鍍膜機的性能特點
2018-09-10 來自: 肇慶高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1219
蒸發(fā)鍍膜機的性能特點
現(xiàn)在我們的蒸發(fā)鍍膜機為有機無機多源有氣相分子沉積系統(tǒng),其在高真空條件下,通過加熱材料的方法,在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜,具有高真空多源有機、金屬電阻蒸發(fā)及手套箱保護(hù)條件下器件后期制作。
蒸發(fā)鍍膜機主要用于有機半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能 研究實驗、有機半導(dǎo)體器件的原理研究實驗也可用于普通金屬電極蒸發(fā)鍍膜研究;真空室采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼,氬弧焊接、采用先進(jìn)鈍化處理工藝,前滑開門及后開門(均采用鋁門),前后門上均配觀察窗,并預(yù)留有手套箱對接接口。
蒸發(fā)鍍膜機的基片臺尺寸:120mm×120mm,基片臺加熱:室溫~300℃;旋轉(zhuǎn)速度0-20轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào),基片臺可旋轉(zhuǎn)及升降,旋轉(zhuǎn)升降采用金屬焊接波紋管+進(jìn)絲杠+進(jìn)光軸+直線導(dǎo)軌,樣品臺升降旋轉(zhuǎn)自如,無抖動。