蒸發(fā)鍍膜機?廠家講解化合物的蒸鍍
2017-10-25 來自: 肇慶高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1298
蒸發(fā)鍍膜機廠家講解化合物的蒸鍍
化合物的蒸鍍方法有3種:直接蒸鍍法、反應(yīng)蒸鍍法和雙蒸發(fā)源蒸鍍法。
在使用直接蒸鍍法時,化合物可能發(fā)生如下變化:化合物的組成不發(fā)生變化r可以直接沉積得到化合物薄膜;加熱時,化合物分解形成含有多種氣相成分的蒸氣,沉積時得到的是某些氣相成分的薄膜;化合物加熱時分解,得不到薄膜,前兩種情況均可以制取化合物薄膜,但是在應(yīng)用時,應(yīng)注意加熱溫度條件,因為某些情況下,加熱溫度不同,各種氣相成分的組成不同,獲得的薄膜也就不同。
反應(yīng)蒸鍍法是在充滿活性氣體的條件下,蒸發(fā)固體材料,使之在基片上進行反應(yīng)獲得化合物薄膜的方法。這種方法凈常用于鍍制高熔點化合物薄膜。