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真空鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)呢

2018-09-20  來(lái)自: 肇慶高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1146

  真空鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)呢

  1、由于真空鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn),鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化,從而大大地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量,而且在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

  2、各種真空鍍膜設(shè)備技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境,以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。

  3、每種真空鍍膜設(shè)備的薄膜都可以通過(guò)微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù),從而防止蒸鍍材料的氧化,把氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到最小的程度,還可以充入惰性氣體等,這對(duì)于濕式鍍膜而言是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的。

  4、由于在真空鍍膜設(shè)備,所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工,這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。

  5、各種真空鍍膜設(shè)備技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn),大大擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍,無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì),都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。

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