真空鍍膜機(jī)需要先測(cè)試設(shè)備的抽真空速度，在測(cè)試過(guò)程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能;然后再測(cè)試設(shè)備的密封性能，就是抽到極限后保壓1小時(shí)看壓降是否達(dá)標(biāo)，同時(shí)排除細(xì)小的漏孔;第三步，產(chǎn)品試作，檢驗(yàn)其他的性能，比如傳動(dòng)、加熱、絕緣等等;如果有工藝保證的話就繼續(xù)打樣并作測(cè)試;并且所有的測(cè)試應(yīng)作記錄，并有記錄人簽字以及有使用部門或工程部門的人確認(rèn)簽字即可。對(duì)于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

　　在光學(xué)薄膜的尺度上看，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)。原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在對(duì)于多弧離子鍍膜機(jī)的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒有任何障礙。鍍膜中化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。對(duì)于晶格有序度的均勻性，這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題